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設備用途
用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
設備組成
系統由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。
外延室
極限真空優于：6.0x10-8Pa；
抽速：20分鐘可達到6x10-3Pa；
靶材尺寸：4個x2英寸或6個x1英寸；
樣品尺寸：2英寸x1片；
樣品溫度：800℃；
真空系統：離子泵系統；
進樣室
極限真空優于：6x10-5Pa；
抽速：20分鐘可達到：6x10-3Pa；
送樣：磁力傳遞桿；
真空系統：分子泵系統；
其他
觸摸屏點動控制：1套；
冷卻水路系統：1套；
高能電子衍射儀：1套；
激光束掃描裝置：1套；
氧等離子體發生器：1套；
激光器：1套（選配）。
公司：中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
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銷售電話：024-23826899、024-23826855
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