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PVD500磁控濺射系統
編號:2
類別:磁控濺射鍍膜系統
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備關鍵技術指標:

    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業最好的軟件控制系統,提供成熟的工藝包;

    片內膜厚不均勻性:≤±2.9%,批間膜厚不均勻性≤±4.3%(連續3爐);

    樣品托面中心到地面的高度1360mm;

    注:以TiCu任選一種靶材做工藝測試,樣品為Φ100mm,鍍膜厚度100nm左右進行標定。

    濺射材料適用于:Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化鋁,氧化鈦,氧化鋯,ITO,AZO,氮化鉭,氮化鈦等;

    本套設備為PVD系統平臺,既可專注單一功能、也可選配以下多功能組合:

    1、關鍵部件接口都為標準接口,可以實現電子束、電阻蒸發、有機蒸發、多靶或單靶磁控濺射、離子束、多弧、樣品離子清洗等功能(如預留,需要注明);

    2、系統平臺為準無油系統,提供更優質的超潔凈實驗環境,保障實驗結果的可靠性和重復性;

    3、可以連接超潔凈手套箱、進樣腔體和多個工藝腔,形成真空互聯系統,保障樣品制備單層、多層薄膜與表征都在高真空下進行,最大程度的避免樣品的污染(如預留,需要注明);

    4、系統可以選擇單靶單樣品、單靶多樣品、多靶單樣品、多靶多樣品等多種、多層沉積方式;(注:可擴展到6個磁控靶陰極)

    5、靶基距具有動態自動調節功能;

    6、樣品臺和磁控靶可以上下互換;

    7、系統設置一鍵式操作,可以實現自動、手動、遠程控制、遠程協助,自動檢漏等功能;

    8、控制軟件分級權限管理,采用配方式自動工藝流程,提供標準工藝配方和開放式工藝編輯、存儲與調取執行、歷史數據分析等功能,并且不斷更新和升級;

    9、可以提供網絡和手機端查詢控制功能,實現隨時查詢數據記錄、分析統計等功能(如預留,需要注明);

    10、提供遠程故障診斷功能,動態為用戶提供各類型技術服務;11、節能環保,設備能耗優化后運行功率相比之前節能10%;

    12、本設備為緊湊式,布局相比原組合模式,節省占地面積30%;13、工藝前的真空指標準備時間壓縮為原來的1/3,最快16分鐘內即可開始工藝實驗;

    14、真空抗沖擊,誤操作帶有自保護功能;

    15、可用于標準鍍膜產品小批量生產。

    1、濺射室極限真空度:≤3x10-5Pa(經烘烤除氣后);

    2、系統從大氣(充入干燥氮氣)開始抽氣:濺射室20分鐘可達到5x10-4Pa;

    3、鍍膜時工作真空度:0.110Pa;

    4、系統在抽氣到極限真空后停泵關機12小時后真空度:≤3Pa;

    5、磁控濺射靶:3英寸x4套;

    6、直流濺射電源:500Wx3套;

    7、射頻濺射電源:600Wx1套;

    8、樣品尺寸:4英寸x1片;

    9、樣品溫度:800℃;

    10、脂潤滑分子泵:1套;

    11、無油渦旋干泵:1套;

    12、薄膜壓力真空規:1套;

    13、冷卻水路系統:1套;

    14、全自動控制及人機交互界面系統

    系統由工業級工控機和PLC控制,有自動控制和手動控制兩種功能,采用“PVD沉積鍍膜控制系統” V1.3。

    自動控制:

    1、系統具有一鍵式操作功能,已經配置多種標準工藝參數包,可以直接調取執行;

    2、系統具有自選參數功能,設定好目標真空度、樣品目標加熱溫度、濺射電源工作參數,系統自動開始抽真空,達到目標真空度后開始加熱,達到目標溫度后,根據客戶設定的功率開啟濺射電源,濺射時間以設定的工作參數為準;

    3、同時對濺射電源的功率和濺射時間可以設定多個數值,實現不同輸出功率、不同鍍膜時間的控制,進而實現單靶濺射、多靶輪流濺射和共濺射;

    4、系統檢測工藝試驗結束后自動通入保護氣體,破除真空,并提醒工藝結束。

    手動控制:

    即實驗過程的點動控制,操作對象包括:

    1、旁抽閥、前級閥、插板閥、放氣閥的開關;

    2、干泵與分子泵的啟停;

    3、烘烤照明的開關;

    4、樣品擋板的開關;

    5、樣品自轉速度的設定;

    6、樣品升降設定;

    7、樣品加熱目標溫度的設定;

    8、靶擋板的開關;

    9、靶基距軟件旋鈕;

    10、設定濺射功率;

    11、設定氣體流量。

    15、系統具有漏氣自動報警功能;

    16、系統提供工藝參數記錄和分析,參數具有導入和導出功能;

    17、歷史工藝參數自動調取執行。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.benoithamon.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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