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首頁 ? 產品中心 ? PVD鍍膜設備 ? 磁控濺射鍍膜系統
設備用途
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設備組成
系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。
1、極限真空度:≤6.6x10-6Pa;
2、25分鐘可達到6.6x10-4Pa;
3、磁控濺射靶:2英寸x3套;
4、直流濺射電源:500Wx2套;
5、射頻濺射電源:500Wx1套;
6、樣品尺寸:4英寸x1片;
7、樣品溫度:最高800℃;
8、分子泵系統:1套;
9、薄膜壓力真空規:1套;
10、冷卻水路系統:1套;
11、自動控制系統:1套。
公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
地址:沈陽市渾南新區新源街1號
電話:024-23826899、024-23826855
傳真:024-23826828
郵箱:sales@sky.ac.cn
網址:www.benoithamon.com
開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處
賬號:2100 1394 6010 5958 1266
納稅號:912101 0041 0581 2660
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