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SKY考夫曼離子源
編號:SN20151013130506290
類別:考夫曼離子源
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    SKY考夫曼離子源利用電離后的高能粒子經過加速、中和,形成有能量、方向、具有一定寬度口徑、又是中性的離子束。廣泛應用于種光學膜、金屬膜、半導體膜、絕緣膜、攙雜膜、合金膜、金剛石膜和立方氮化硼超硬涂層等的真空清洗與輔助濺射。

     

    在相同的電壓下,SKY考夫曼離子源比采用單孔的離子光柵傳輸更高的離子束,可以產生具有離子能量的中和離子束,束流的準直性和束流密度均可單獨控制,可使用各種獨立形式的靶材,離子束附近的中性氣體壓強在很大范圍內可以獨立地控制。

    考夫曼離子源

    ²  漏率<1×10-8Pa.L/S;

    ²  使用溫度________℃;

     

    ²  需配SKY3CM6CM型考夫曼離子源電源使用。

     

    SKY3CM6CM型考夫曼離子源電源

    ²  離子源外形尺寸(寬×高×深):482×260×440;

    ²  燈絲電壓:014VAC,電流08A;

    ²  柵極電壓:01500VDC,電流060mA;

    ²  加速電壓:0400VDC,電流:050mA;

    ²  放電電壓:0100VDC,電流:02A;

    ²  中和電壓:014VAC,電流:08A;

     

    ²  使用溫度040℃。

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