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PLD450脈沖激光濺射薄膜沉積系統
編號:1
類別:激光鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

       用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

     

    設備組成

        系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。

    極限真空度:≤6.67x10-6 Pa; 

    抽速:20分鐘可達到5x10-3 Pa;

    靶材尺寸:Φ60mmx4塊;

    樣品尺寸:Φ50mmx1片;

    樣品溫度:800℃;

    分子泵系統:1套;

    真空計:1套;

    觸摸屏點動控制系統:1套;

    冷卻水路系統:1套;

    高能電子衍射儀:1套(選配);

    激光束掃描裝置:1套;

    氧等離子體發生器:1套;

    激光器:1套(選配)。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.benoithamon.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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