?? 線列式磁控濺射系統 - 中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
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線列式磁控濺射系統
編號:8
類別:磁控濺射鍍膜系統
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜(Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等),并能夠實現反應濺射,可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝,具備較大尺寸和多種尺寸規格的晶體硅光伏電池薄膜的連續制備能力。

     

    設備組成

        主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統、氣路系統、電控系統、安裝機臺等部分組成。此外,該系統升級后,可達到5室結構(進樣室、三個獨立的濺射室、出樣室;增加射頻電源,提供制備介質膜的功能,并能實現連續鍍膜)。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司  

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    電話:024-23826899、024-23826855

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.benoithamon.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

     

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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