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JGP-800型磁控濺射鍍膜設備
編號:SN20150801135422766
類別:磁控濺射鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途
    該產品可廣泛應用于半導體、LED和光伏等行業,主要用于各種金屬、半導體及介質材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產需要。

    設備組成
    該系統為單腔室結構,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統和控制系統等組成。
    系統由工控機和PLC實現控制,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實現;提供真空系統、濺射工藝設置、充放氣系統等人機操作界面;在工控機上可通過配方設置參數,實現對程序工藝過程和設備參數的設置。

     

    技術指標:

     

    型號

    JGP-800

    濺射室極限真空

    ≤8.0×10-6Pa

    恢復真空時間

    系統從大氣抽至1.0×10-3 Pa≤15min

    均勻性

    膜厚不均勻性≤±5%;片間不均勻性≤±5%;批次間不均勻性≤±5%

    濺射真空室

    圓筒形結構,尺寸Ф800mmx250mm

    磁控濺射系統

    永磁靶4支,靶材尺寸6英寸;

    配1臺進口電源(射頻或直流脈沖可選);

    濺射速率:0.5~5埃/秒(靶材Al)

    公轉基片臺

    6英寸6片,(4英寸12片或3英寸16片);

    基片公轉3~15轉/分,連續可調,可選配公自轉復合工件臺

    光加熱系統

    樣品加熱溫度:室溫~250°C,連續可調;

    基片溫度不均勻性:±10°C;

    控溫方式為PID自動控溫及數字顯示,配備進口控溫表

    工作氣路

    2路質量流量控制器氣路

    抽氣機組

    低溫泵(進口)、羅茨干泵機組、氣動閘板閥(進口)、管路等

    真空測量

    2個真空計(進口)對系統真空、工作真空及前級真空進行精確檢測;真空度在工控機觸膜屏上可直觀顯示;可準確監控濺射鍍膜工藝過程的真空度

    控制系統

    系統由工控機(觸摸屏)和進口PLC實現對整個系統的控制

    占地面積

    主機

    1500×1000mm2

    電控柜

    700×700mm2(一個)

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.benoithamon.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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