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PECVD400化學氣相沉積系統
編號:SN20200424103319223
類別:PECVD系列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。

    技術指標:

    1、 極限真空度:≤6.67x10-5Pa;

    2、 系統從大氣開始抽氣,40分鐘可達到6.6x10-4Pa;

    3、 系統停泵關機12小時后真空度:≤5Pa;

    4、 圓筒型真空室尺寸約Ф400x300mm;

    5、 基片尺寸:可放置Φ100mm基片;

    6、 工藝氣路:4路;

    7、 抽氣組件:分子泵系統;

    *請致電024-23826899/55/60,由專業技術人員為您提供詳細的技術方案?;驅⒛募夹g要求及聯系方式等信息發送到我司郵箱:sales@sky.ac.cn。*

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.benoithamon.com

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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