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產品中心
設備用途
廣泛用于半導體、LED生產線批量生產,可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬,ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝要求。
設備組成
系統主要由真空室、旋轉基片架、加熱系統、電子槍及電子槍電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成。立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝。
技術指標
1、極限真空度:≤6.7×10-5 Pa (經烘烤除氣后);
2、系統真空檢漏漏率:≤6.7×10-8 Pa.l/S;
3、20分鐘可達到工作真空度6.7×10-4 Pa;
4、蒸發速率:0.1~15Å/sec;
5、膜厚均勻性:片內≤±1%,片間≤±1%;
6、電子槍及電源:10KW,坩堝6x40cc;
7、膜厚控制儀(單探頭):1套;
8、拱形基片架:可同時放置20片4″基片;
9、樣品加熱溫度:室溫~300°C;
10、無油泵抽系統:1套;
11、自動控制系統:1套;
12、占地面積:1600×2700mm;開門后尺寸:3200×3700mm。
公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
地址:沈陽市渾南新區新源街1號
銷售電話:024-23826899、024-23826855
售后電話:024-23826838
傳真:024-23826828
郵箱:sales@sky.ac.cn
網址:www.benoithamon.com
開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處
賬號:2100 1394 6010 5958 1266
納稅號:912101 0041 0581 2660
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