??
產品中心
首頁 ? 產品中心 ? PVD鍍膜設備 ? 離子束濺射鍍膜設備
設備用途
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設備組成
系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統、離子源及安裝機臺等部分組成。
極限真空度:≤6.6x10-5Pa;
抽速:40分鐘可達到6.6x10-4Pa;
磁控濺射靶組件:2英寸x4套;
直流濺射電源:500Wx2套;
射頻濺射電源:500Wx2套;
樣品尺寸:φ30mmx6片;
樣品臺溫度:600℃;
濺射離子槍:1套;
輔助離子槍:1套;
四工位轉靶:1套;
質量流量控制器:3套;
分子泵系統:1套;
控制系統:觸摸屏點動控制:樣品公轉、樣品自轉、基片擋板轉動、樣品控溫、四工位轉靶、質量流量控制器、真空計、直流濺射電源、射頻濺射電源。
冷卻水路系統:1套。
地址:沈陽市渾南新區新源街1號
銷售電話:024-23826899、024-23826855
售后電話:024-23826838
傳真:024-23826828
郵箱:sales@sky.ac.cn
網址:www.benoithamon.com
開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處
賬號:2100 1394 6010 5958 1266
納稅號:912101 0041 0581 2660